募资不超过7亿元！宁波冠石加码28nm光掩模国产替代

根据公告信息披露，国内光掩膜版行业的中高端市场仍主要由国外掩膜版厂商占据，目前境内先进制造工艺为28nm工艺，境外企业福尼克斯、凸版印刷、大日本印刷5nm、3nm 及以下光刻制程的掩膜版已量产应用，并支持EUV光刻，这些企业对于光掩膜版的关键技术进行了较为严格的封锁，使得我国半导体掩膜版厂商已实现量产节点仍较为落后，主流产品制程以350-130nm为主，国产化率较低。根据中国电子协会数据统计，目前中国半导体光掩膜版的整体国产化率约为10%，而高端光掩膜版国产化率仅为3%，国内光掩膜版生产厂商产业链自主可控仍存在重大短板。

公司光掩膜版制造项目厂房已基本建设完成，主要生产设备均已安装调试，公司完成了55nm新品发布及40nm成功通线，完成了技术工艺路线的规模化验证。截至2025年8月末，公司光掩膜版制造项目累计实现收入约为1,018.73万 元。公司光掩膜版产品验证周期一般需要6-9个月左右，待完成终端验证后，光掩膜版业务收入有望进一步增加。

本次募资投入光掩膜版制造项目，有助于公司加快产能建设步伐，尽早实现产线全面达产，同时提速28nm先进制程设备的采购、调试及产线贯通进程，缩短与国际先进水平差距，推动产业生态向本土化、高端化方向迭代升级。光掩膜版制造项 目的实施也有助于公司抓住光掩膜版国产化机遇，把握下游市场需求增长机遇，构建公司新的业绩增长点。